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  1. Lumieres - Repositorio institucional Universidad de América
  2. Ingenierías
  3. Ingeniería Química
  4. Trabajos de grado - Ingeniería Química
Please use this identifier to cite or link to this item: https://hdl.handle.net/20.500.11839/7202
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dc.contributor.authorBarliza Colorado, Victor Daniel-
dc.contributor.authorTorres Chisino, Daniel Leandro-
dc.date.accessioned2018-11-26T17:49:21Z-
dc.date.available2018-11-26T17:49:21Z-
dc.date.issued2018-10-05-
dc.identifier.citationAPA 6th - Barliza Colorado, V. D. y Torres Chisino, D. L. (2018) Evaluación de los procesos de oxidación avanzada: fenton, Uv/H2O2 y foto-fenton para la degradación de clorpirifós en aguas residuales a nivel laboratorio en la universidad de Cartagena (Trabajo de grado). Fundación Universidad de América. Retrieved from http://hdl.handle.net/20.500.11839/7202-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.11839/7202-
dc.descriptionThe advanced oxidation processes are part of the viable wastewater treatments in the country, these allow the purification of these through the generation of hydroxyl radicals. In the present work the effectiveness of the advanced oxidation processes (Fenton, Foto-Fenton and UV / H2O2) in the reduction of organophosphorus pesticides (chlorpyrifos) in the discharges coming from the laboratories of the agrochemical research group of the university was evaluated. from Cartagena; for this, preliminary tests were conducted and the influential variables in the oxidation processes were determined. A factorial design 22 was applied, with which the effect of the process variables (concentration of Fe + 2 and concentration of H2O2) could be observed. The evaluation of the application of the advanced oxidation methods Fenton, Foto-Fenton and UV / H2O2 for the degradation of chlorpyrifos in wastewater at laboratory level, was carried out in acid medium for the formation of the radical HO •, and thus degrading the chlorpyrifos present in the wastewater. Experimentally, it was determined that the concentration of 2.5 ppm and 540 ppm of Fe + 2 and H2O2 respectively was the most adequate, reaching an efficiency of 96.53% reduction of chlorpyrifos in the residual water with the Foto-Fenton method. The technical specifications were made to implement this process on a pilot scale. For the disposal of discharges, reference was made to resolution 631 of 2015, a legal standard that establishes the parameters and maximum values of permitted chlorpyrifos that must be met by a discharge.es_CO
dc.description.abstractLos procesos de oxidación avanzada hacen parte de los tratamientos de agua residual viables en el país, estos permiten la depuración de estas mediante la generación de radicales hidroxilos. En el presente trabajo se evaluó la efectividad de los procesos de oxidación avanzada (Fenton, Foto-Fenton y UV/H2O2) en la disminución de plaguicidas organofosforados (clorpirifós) en los vertimientos provenientes de los laboratorios del grupo de investigación de agroquímica de la universidad de Cartagena; para esto, se realizaron ensayos preliminares y se determinaron las variables influyentes en los procesos de oxidación. Se aplicó un diseño factorial 22, con el cual se pudo observar el efecto de las variables del proceso (concentración de Fe+2 y concentración de H2O2). La evaluación de la aplicación de los métodos de oxidación avanzada Fenton, Foto-Fenton y UV/H2O2 para la degradación de clorpirifós en aguas residuales a nivel laboratorio, se llevó a cabo en medio ácido para la formación del radical HO•, y así degradar el clorpirifós presente en el agua residual. Experimentalmente se determinó que la concentración de 2.5 ppm y 540 ppm de Fe+2 y H2O2 respectivamente fue la más adecuada, llegando a una eficiencia del 96.53 % de disminución del clorpirifós del agua residual con el método Foto-Fenton. Se realizaron las especificaciones técnicas para implementar este proceso a escala piloto. Para la disposición de vertimientos, se tuvo como referencia la resolución 631 de 2015, norma legal que establece los parámetros y valores máximos de clorpirifós permitidos que debe cumplir un vertimiento.es_CO
dc.language.isoeses_CO
dc.publisherFundación Universidad de Américaes_CO
dc.rightsAtribución – No comercial – Sin Derivares_CO
dc.subjectOxidación Avanzadaes_CO
dc.subjectFotólisises_CO
dc.subjectFoto-Fentones_CO
dc.subjectAgua residuales_CO
dc.subjectAdvanced oxidationes_CO
dc.subjectPhoto-Fentones_CO
dc.subjectWastewateres_CO
dc.subjectTesis y disertaciones académicases_CO
dc.titleEvaluación de los procesos de oxidación avanzada: fenton, Uv/H2O2 y foto-fenton para la degradación de clorpirifós en aguas residuales a nivel laboratorio en la universidad de Cartagenaes_CO
dc.title.alternativeEvaluation of the advanced oxidation processes: fenton, Uv / H2O2 and photo-fenton for the degradation of chlorpyrifos in wastewater at the laboratory level at the University of Cartagenaes_CO
dc.typebachelorThesises_CO
dc.rights.licenseYo (nosotros) en calidad de titular(es) de la obra, autorizo (autorizamos) al Sistema de Bibliotecas de la Fundación Universidad América para que incluya una copia, indexe y divulgue en el Repositorio Digital Institucional – Lumieres, la obra mencionada con el fin de facilitar los procesos de visibilidad e impacto de la misma, conforme a los derechos patrimoniales que me(nos) corresponde(n) y que incluyen: la reproducción, comunicación pública, distribución al público, transformación, en conformidad con la normatividad vigente sobre derechos de autor y derechos conexos (Ley 23 de 1982, Ley 44 de 1993, Decisión Andina 351 de 1993, entre otras). Al respecto como Autor(es) manifestamos conocer que: - La autorización es de carácter no exclusiva y limitada, esto implica que la licencia tiene una vigencia, que no es perpetua y que el autor puede publicar o difundir su obra en cualquier otro medio, así como llevar a cabo cualquier tipo de acción sobre el documento. - La autorización tendrá una vigencia de cinco años a partir del momento de la inclusión de la obra en el repositorio, prorrogable indefinidamente por el tiempo de duración de los derechos patrimoniales del autor y podrá darse por terminada una vez el autor lo manifieste por escrito a la institución, con la salvedad de que la obra es difundida globalmente y cosechada por diferentes buscadores y/o repositorios en Internet, lo que no garantiza que la obra pueda ser retirada de manera inmediata de otros sistemas de información en los que se haya indexado, diferentes al Repositorio Digital Institucional – Lumieres de la Fundación Universidad América. - La autorización de publicación comprende el formato original de la obra y todos los demás que se requiera, para su publicación en el repositorio. Igualmente, la autorización permite a la institución el cambio de soporte de la obra con fines de preservación (impreso, electrónico, digital, Internet, intranet, o cualquier otro formato conocido o por conocer). - La autorización es gratuita y se renuncia a recibir cualquier remuneración por los usos de la obra, de acuerdo con la licencia establecida en esta autorización. - Al firmar esta autorización, se manifiesta que la obra es original y no existe en ella ninguna violación a los derechos de autor de terceros. En caso de que el trabajo haya sido financiado por terceros, el o los autores asumen la responsabilidad del cumplimiento de los acuerdos establecidos sobre los derechos patrimoniales de la obra. - Frente a cualquier reclamación por terceros, el o los autores serán los responsables. En ningún caso la responsabilidad será asumida por la Fundación Universidad de América. - Con la autorización, la Universidad puede difundir la obra en índices, buscadores y otros sistemas de información que favorezcan su visibilidad.es_CO
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