Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial

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Date

2020-07-01

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Publisher

Fundación Universidad de América

Abstract

En este proyecto de grado se desarrollaron películas delgadas del compuesto ternario CuSbS2 el cual posee una estructura calcostibita depositadas secuencialmente. De esta manera, se realizaron estudios a escala laboratorio sobre los parámetros de cada solución empleada para la elaboración de estas películas, las cuales se dividen en dos capas de diferente material y fueron depositadas por la técnica de electrodeposición secuencialmente con dos electrodos, la primera capa de cobre y la segunda de antimonio en un sistema sustrato/Mo, posteriormente se realizó la sulfurización de la bicapa obteniendo el compuesto sulfuro de cobre y antimonio. Para ello se evaluaron diferentes variables como voltaje, concentración, temperatura y pulsos, según el compuesto en torno al crecimiento de la película, su uniformidad y su composición. Para realizar la bicapa se prepararon soluciones ácidas con potencial fijo, con ayuda de la técnica de corriente pulsante (PDC).

Description

In this degree project, thin films of the ternary compound CuSbS2 were developed, which have a calcostibite structure deposited sequentially. In this way, laboratory-scale studies were carried out on the parameters of each solution used to make these films, which are divided into two layers of different material and were deposited by the electrodeposition technique sequentially with two electrodes, the first layer copper and the second antimony in a substrate / Mo system, the bilayer was subsequently sulfurized obtaining the copper sulfide and antimony compound. For this, different variables such as voltage, concentration, temperature and pulses were evaluated, according to the compound around the growth of the film, its uniformity and its composition. To perform the bilayer, acid solutions with fixed potential were prepared with the aid of the pulsating current technique (PDC).

Keywords

Electrodeposición, Película delgada, Relación de espesores, Electrodeposición, Thin film, Thickness ratio, Tesis y disertaciones académicas

Citation

APA 7th - Mossos Pitre, V. (2020) Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial [Trabajo de grado, Fundación Universidad de América] Repositorio Institucional Lumieres. https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005