Actividad fotocatalítica de películas de TiO2 sensibilizadas con complejos metálicos
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Date
2017-04-25
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Publisher
Ediciones Universidad de América
Abstract
Se efectuó un análisis de las películas de TiO2 sensibilizadas con complejos metálicos de níquel y cobalto (II) contenidos en ligandos derivados del 3.5-dimetilpirazol. Se realizó un estudio preliminar del efecto del protocolo de limpieza de sustrato y de la temperatura de calcinación de las películas de TiO2 sin modificar. Se llevó a cabo la modificación de las películas con el método de dip coating variando el solvente utilizado en la dilución de los complejos y el tiempo del tratamiento térmico posterior a la modificación. Finalmente se evaluó la actividad fotocatalítica de las películas modificadas mediante la degradación de azul de metileno en presencia de radiación ultravioleta y luz visible.
Description
It was done an analysis of TiO2 films sensitized with nickel and cobalt (II) metal complexes contained in ligands derived from 3.5-dimethylpyrazole. A preliminary study was carried out on the effect of the substrate cleaning protocol and the calcination temperature of unmodified TiO2 films. A modification of the films was carried out using the dip coating method, varying the solvent used in the dilution of the complexes and the time of the heat treatment after the modification. Finally, the photocatalytic activity of the modified films was evaluated by means of the degradation of methylene blue in the presence of ultraviolet radiation and visible light.
Keywords
Complejos metálicos, Photocatalysis, TiO2, TiO2, Sensibilización, Metal complexes, Sensitization, Fotocatálisis
Citation
APA 7th - Quiñones Segura, C. A., Saavedra Morales, D. M. y Rocha Aranguren, G. P. (2017). Actividad fotocatalítica de películas de TiO2 sensibilizadas con complejos metálicos. Revista de Investigación, 10(1), 35-45. https://doi.org/10.29097/2011-639X.64